Canon je objasnio da tradicionalna fotolitografska oprema prenosi uzorak strujnog kruga tako što ga projicira na smolu nanesenu na pločicu za spaljivanje strujnog kruga, dok NIL pristup uključuje utiskivanje kalupa dizajna u njega.
Canon je isporučio svoj potpuno novi litografski sustav za proizvodnju čipova konzorciju poluvodiča sa sjedištem u Teksasu. Dobavljač ima za cilj preuzeti tržišni udio od vodećeg ASML-a pojednostavljivanjem najskupljeg koraka u proizvodnji čipova.
Sustav omogućuje uzorke s minimalnom širinom linije od 14 nm, što je ekvivalentno procesu čvora od 5 nm potrebnom za proizvodnju trenutno najnaprednijih logičkih poluvodiča, stoji u priopćenju Canona. Prvi stroj za nanoimprint litografiju (NIL) trebao je biti poslan Texas Institute for Electronics, koji će ga koristiti za istraživanje i razvoj naprednih poluvodiča i proizvodnju prototipova.
Canon je objasnio da tradicionalna fotolitografska oprema prenosi uzorak strujnog kruga tako što ga projicira na smolu nanesenu na pločicu za spaljivanje strujnog kruga, dok NIL pristup uključuje utiskivanje kalupa dizajna u njega. Tvrtka sa sjedištem u Japanu predstavila je stroj 2023., promičući pojednostavljeni proces i nižu cijenu izrade čipova utiskivanjem dizajna umjesto spaljivanja ultraljubičastim svjetlom.
