Taj bi prototip trebao do 2030. godine omogućiti izradu čipova, uz korištenje starijih dijelova ASML-ovih strojeva.
Kineska industrija poluvodiča potencijalno je izvela jedan od najznačajnijih tehnoloških iskoraka dosad, nakon kreiranja prvog domaćeg prototipa EUV litografskog uređaja.
Taj bi prototip trebao do 2030. godine omogućiti izradu čipova, uz korištenje starijih dijelova ASML-ovih strojeva.
Peking godinama intenzivno radi na postizanju proboja u EUV tehnologiji, pri čemu su tvrtke poput SMIC-a pokušavale replicirati tehnologiju nizozemskog ASML-a putem reverznog inženjeringa i privlačenja stručnog kadra.
Sada je Reuters objavio da su ti višegodišnji napori urodili plodom, jer se navodi da je Kina razvila prototip EUV litografskog stroja koji je navodno u potpunosti operativan i sposoban generirati ultraljubičasto svjetlo namijenjeno izlaganju fotoosjetljivog sloja. Ipak, iako se ovaj iskorak čini ohrabrujućim, Kina se i dalje oslanja na starije dijelove ASML-ovih strojeva, no brzina postignutog napretka u relativno kratkom razdoblju smatra se iznenađujućom.
Iako EUV litografski strojevi uključuju niz tehničkih složenosti, a još uvijek nije poznato koju su točno metodu kineski inženjeri primijenili u razvoju prototipa, izvješće navodi da se u velikoj mjeri koriste dijelovi sa starijih ASML-ovih sustava.
Još važnije, stroj zasad nije proizveo niti jedan čip u fazi tzv. tape-outa. Unatoč tome, izvori tvrde da bi Kina mogla učiniti EUV tehnologiju široko primjenjivom do 2030. godine, što je znatno raniji rok od ranijih procjena o tome kada bi mogla sustići Sjedinjene Američke Države u globalnoj utrci u poluvodičima.
Uz snažan zamah umjetne inteligencije, potreba za domaćom proizvodnjom poluvodiča u Kini znatno je porasla. Kompanije poput Huaweija užurbano nastoje osigurati kapacitete za proizvodnju čipova izgradnjom mreže proizvodnih pogona u suradnji sa SMIC-om. Potraga za naprednim čipovima vidljiva je i u razvoju SMIC-ova procesa N+3, koji se opisuje kao konkurent standardnom 5-nanometarskom procesu, iako je nastao kao odgovor na tehnološka ograničenja s kojima se Kina suočava.
Za sada je potrebno doznati više detalja o načinu rada kineskog EUV stroja, osobito u pogledu izvora svjetlosti i drugih ključnih parametara. Unatoč tome, riječ je o iznimno važnom razvoju događaja za kinesku poluvodičku industriju.
Microsoftov June 2026 Patch Tuesday donio je sigurnosna ažuriranja za 200 ranjivosti, uključujući više zero-day slabosti i javno objavljenih propusta. Sama brojka po sebi nije samo tehnički detalj, nego signal koliko se enterprise i javni sektor danas moraju oslanjati na discipliniran patch menadžment kako bi održali osnovnu sigurnosnu razinu.
Europska komisija je predstavila paket tehnološke suverenosti čija je okosnica Cloud and AI Development Act (CADA), zakonodavni prijedlog kojim se uvodi jedinstveni okvir za procjenu suverenosti oblaka i umjetne inteligencije za europsku javnu upravu.
Tvrtka ANIQ, prva akcelerirana tvrtka Poduzetničkog inkubatora PISMO powered by A1, službeno je predstavila projekt RAGNA - istraživačko-razvojni projekt vrijedan više od 2,5 milijuna eura kojim će, u suradnji sa Sveučilištem Algebra Bernays i tvrtkom Protopixel, razvijati inovativnu AI platformu za upravljanje Game Design Dokumentom (GDD), jednim od ključnih alata u procesu razvoja videoigara. Početak projekta obilježen je početnom konferencijom i panel raspravom održanom u Novskoj.
